江崎代理日本SEN特殊光源清洗机PL17-110

日本SEN特殊光源 PL17-110桌上型光表面处理装置(清洗机)
光源：PL17-110 
电源：UVE-110-1H
PL17-110桌上型光表面处理装置  
本装置是为了运用短波长紫外线进行表面处理、干式清洗的效果而作的试验机。所使用的光源为160mm*160mm1１0W合成石英玻璃的面光源。
a.紫外线表面清洗是近年来新兴的清洗方法。
紫外线表面清洗法不同于原有清洗法，没有废水，废气，废物产生。是高能环保型清洗杀菌方法。广泛运用于LCD,PCB，点子，印刷，塑胶，玻璃，涂装等领域。
紫外线清洗是是利用**化合物的光敏氧化作用达到去除附着在材料表面的**物质。经过光清洗后的材料表面可以达到原子级清洁度。
其主要原理为紫外线灯发出的185nm波长和254nm波长具有很高的能量，**大多数**物的结合能量。由于大多数碳氢化合物对185nm波长的紫外线具有较强的吸收能力，并且可以在吸收185nm波长后分解成离子，流离态原子，受激分子和中子等，这就是光敏作用。空气中的氧分子在吸收了185nm波长的紫外光后，会产生臭氧和氧气，臭氧对254nm波长具有很强的吸收性，臭氧有可以分解为氧原子和氧气。氧原子具有较强的氧化性，可以将碳氢化合键切断，生成水和二氧化碳等易挥发气体，从被照射物表面飘逸出，彻底清除物体表面的污染物。这就是紫外线清洗的原理。
清洗法有干洗和湿洗两种。干洗有UV臭氧清洗，等离子清洗，离子清洗等。湿洗有水洗，碱清洗，酸清洗，液体喷射清洗等。我们日常所熟悉的湿式清洗有可以清洗掉较大范围污染的优点。但是也会有清洗不掉的污染。同时由于清洗的溶剂会在被清洗物表面残留，因此对于高精密世界来说也是个污染。
与此相反UV紫外线清洗虽然不能清洗掉大范围的污染，却可以清洗到各个角落的就是光洗净技术（以下简称UV臭氧清洗）。在纳米技术世界里，我们虽然看不到**性污染，但是**污染在表面形成膜（软接着层）如果在这层膜上印刷的话，就会出现鲜度恶化以及针孔等障碍。UV臭氧清洗可以去除的污染有**化合物以及含有油脂的污染等。